破坏臭氧层物质清单
序号 | 物质名称 | 通常涉及范围 | 我公司使用范围 | |
1. | 氯物质（完全卤化链烷） | CFC-11 | 坐垫、床垫、汽车内饰、绝热建筑管材、板材等; 板材发泡剂; 透平式制冷机用制 冷剂; 烟丝膨胀剂; PU 软泡; 箱式PU 软泡 | 汽车、办公室 |
2. | CFC-12 | 办公室 | ||
3. | CFC-113 | 清洗剂 | 冷气机 | |
4. | CFC-114 | 内饰清洗低温制冷设备 | 冷气机 | |
5. | CFC-115 | 食品冻结设备 | ／ | |
6. | CFC-13 | 电子医疗用低温设备 | ／ | |
7. | 四氯化碳CTC | 清洗剂 | ／ | |
8. | 1,1,1-三氯乙烷（甲基氯仿，TCA） | 清洗剂 | ／ | |
9. | HCFC-22 | ／ | ||
10. | HCFC-141b | ／ | ||
11. | 哈龙 | 哈龙1301 | 灭火系统生产 | ／ |
12. | 哈龙1211 | 灭火器生产、灭火系统生产 | ／ | |
13. | 溴物质 | CH3Br | ／ | |
14. | 碳化物 | 二氧化碳（C02） | 空气 | |
15. | C0(一氧化碳) | ／ | ||
16. | 甲烷(CH4) | 灯泡部 | ||
17. | 非甲烷烃类物种 | ／ | ||
18. | 氮化物 | 氧化亚氮(N2O) | ／ | |
19. | 氮氧化物(NOx) | ／ | ||
20. | 氯物质（部分卤化链烷） | CH3Cl | ／ | |
21. | CHF2Cl(CFC－22) | ／ | ||
22. | CH3CCl3 | ／ | ||
23. | CHFCl2(CFC－21) | ／ | ||
24. | 氢物质 | 氢(H2) | 空气 | |
25. | 水 | 水(H2○) | 生活区 | |
编制： 审核： | ||||
破坏臭氧层物质特性
(a) 碳物质
一氧化碳(CO)
一氧化碳的重要来源是自然界和人类，据认为对对流层的光化过程有重要的直接作用，对平流层的光化过程则有间接作用。
二氧化碳(CO2)
二氧化碳的重要来源是自然界和人类，通过影响大气的热构造而影响到平流层的臭氧。
甲烷(CH4)
甲烷来自自然界和人类。对平流层和对流层的臭氧都有影响。
非甲烷烃类物种
非甲烷烃类物种含有许多化学物质，来自自然界和人类，对对流层的光化过程有直接作用，
对平流层光化过程则有间接作用。
(b) 氮物质
氧化亚氮(N2O)
氧化亚氮主要来自自然界，不过人类来源也变得愈来愈重要。氧化亚氮是平流层NOx的主要来源，NOx对于平流层臭氧充裕的控制有重要作用。
氮氧化物(NOx)
NOx的地平面来源，只对对流层的光化过程有直接的重要作用，对平流层的光化过程则有间接作用，而接近对流层顶的NOx注射可能对上对流层和平流层的臭氧直接引起变化。
(c) 氯物质
完全卤化链烷，例如CCl4，CFCl3(CFC－ll)，CF2Cl2(CFC－12)，C2F3Cl3(CFC－113)，C2F4Cl2(CFC－114)
完全卤化链烷来自人类，是ClOx的一个来源，对臭氧的光化过程有重要作用，尤其是在海拔30一50公里区域。
部分卤化链烷，例如CH3Cl，CHF2Cl(CFC－22)，CH3CCl3，CHFCl2(CFC－21)
CH3Cl来自自然界，而上列其他部分卤化链烷则来自人类。这些气体也是平流层ClOx的来源。
(d) 溴物质
全部卤化链烷，例如CF3Br这些气体来自人类，是BrOx的来源，其作用类似ClOx。
(e) 氢物质
氢(H2)
氢是来自自然界和人类，对平流层的光化过程的作用不大。
水(H2○)
水来自自然界，对平流层和对流层的光化过程都有重要作用。平流层水蒸气的本地来源包括甲烷的氧化以及较小程度上氢的氧化。
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